방학동안 약 세 번의 세미나가 진행된다. 이번에 두 번째 세미나였다. 첫 번째 세미나에서는 시간 부족으로 내 발표가 밀려 사실상 이번이 첫 번째 세미나였다. 여러 피드백이 있었고 기억이 나는 대로 다시 생각을 정리해보려한다.
교재는 Yuan Taur and Tak H.Ning의 <Fundamentals of Modern VLSI Devices>를 이용한다.
내 발표 범위는 MOS capacitor의 cv특성, quantum mechanical effect, interface states and traps in oxide, high field effects in oxide, threshold voltage requirement and channel profile design, nonuniform channel doping, discrete dopants effects, hot-carrier effects, lightly-doped drain(LDD)였다.
먼저 가장 크게 느꼈던 점은 아는 것을 말하는 것이 생각보다 쉽지 않았다는 점이었다. 발표 준비를 한번만 읽어보고 간 탓도 있지만, 스스로도 즉흥적으로 논리있게 말하는 능력이 많이 부족하다는 게 느껴졌다. 발표를 논리정연하게 차근차근 하는 연습을 자주해야 할 것 같다. 많이 해보고 내 단점들을 개선해 나가는 수밖에 없다.
내 문제점은 다음과 같았다.
1. 용어를 유창하게 구사하지 못했다는 것
주로 다 영어로 된 용어들인데, 입에 잘 안붙었다. 그래서 계속 버벅거리거나 다른 용어로 잘못 말해 수정하거나 그랬다. 쉬운 용어여도 그랬다. 자주 발음하면서 입에 익숙해지도록 해야할 것 같았다.(그냥 발표연습을 3번 정도하면 될 것 같다.)
2. 피피티 활용이 아쉬웠다.
피피티 내용을 그림에 맞게 구성하던가, 그림을 변형해서 피피티 내용에 맞게 바꾸던가 했어야 했는데 그림과 내용이 살짝 안 맞아 혼동할 수 있는 부분이 있었다. 다음에는 내용을 보고 그림을 보았을 때 더 직관적으로 알 수 있도록 바꿀 것이다.
3. 피피티에 글자수가 너무 많았다.
내용을 넣다보니 다 필요한 내용을 넣어놓았는데, 내용을 핵심적인 것만 간추려서 글자의 양을 줄이는 것이 좋을 것 같았다. 또한, 내 수준 낮은 영어 실력으로 피피티를 영어로 써놓다 보니까 문법이 틀린게 많다는 지적이 있었다. 영어를 쓰더라도 신중히 써야겠다.
4. 발표 말투에 대한 갈등
다나까로 말해야된다는 강박이 있는 것 같다. 군대에서 하던 습관이 남아있는건가. 근데 다나까로 말하는 게 거북하다. 말하면서도 계속 거슬려서 말투를 중간에 바꾸기도 했다. 좀 그냥 자연스럽게 말하자.
질문은 다음과 같았다.
1. retrograde channel profile이 Vt를 줄이는데 쓴다면, high-low channel profile는 그럼 오히려 안좋은데 왜 소개되어 있는건가?
2. LDD의 parasitic resistor 생성을 보완하기 위해 high-k spacer로 gate fringing field를 증가시키는데 보통 gate fringing filed는 소자에 안좋다고 알려져 있다. 이러한 점에서 문제는 없는가?
3. halo implant 와 super halo implant의 차이는 무엇인가?
질문들에 대해서는 조사해본 뒤 좀 더 자세히 다뤄보도록 하겠다.